پیشرفت در فناوری های CMP/Polishing برای ساخت دستگاه های الکترونیکی
Advances in CMP/Polishing Technologies for the Manufacture of Electronic Devices
نویسنده: Doi, Toshiro; Marinescu, Ioan D.; Kurokawa, Syuhei(eds.)
ناشر: Elsevier
سال انتشار: 2012
تعداد صفحات: 256
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 3 مگابایت