رسوب لایه اتمی برای نیمه هادی ها
Atomic Layer Deposition for Semiconductors
نویسنده: Cheol Seong Hwang, Cha Young Yoo (auth.), Cheol Seong Hwang (eds.)
ناشر: Springer US
سال انتشار: 2014
تعداد صفحات: 265
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 6 مگابایت