رسوب بخار شیمیایی برای میکروالکترونیک: اصول، فناوری و کاربردها (علوم مواد و فناوری فرآیند)
Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)
نویسنده: Arthur Sherman
سال انتشار: 1989
تعداد صفحات: 229
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 11 مگابایت