یون ایمپلنت و پردازش پرتو
Ion Implantation and Beam Processing
نویسنده: J. S. Williams, J. M. Poate
ناشر: Elsevier Inc, Academic Press
سال انتشار: 1984
تعداد صفحات: 415
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 24 مگابایت
توضیحی برای این کتاب ثبت نشده است.