خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

مدل سازی رسوب بخار شیمیایی فیلمهای تنگستن

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

نویسنده: Dr.ir. Chris R. Kleijn, Dr. Christoph Werner (auth.)

ناشر: Birkhäuser Basel

سال انتشار: 1993

تعداد صفحات: 138

زبان: English

فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها

حجم فایل: 11 مگابایت