خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Principles of Chemical Vapor Deposition

اصول رسوب شیمیایی بخار

Principles of Chemical Vapor Deposition

نویسنده: Daniel M. Dobkin, Michael K. Zuraw (auth.)

ناشر: Springer Netherlands

سال انتشار: 2003

تعداد صفحات: 276

زبان: English

فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها

حجم فایل: 9 مگابایت