مکانیسمهای فرسودگی قابلیت اطمینان در فناوریهای پیشرفته CMOS (سری مطبوعاتی IEEE در سیستمهای میکروالکترونیک)
Reliability Wearout Mechanisms in Advanced CMOS Technologies (IEEE Press Series on Microelectronic Systems)
نویسنده: Alvin W. Strong, Ernest Y. Wu, Rolf-Peter Vollertsen, Jordi Sune, Giuseppe La Rosa, Timothy D. Sullivan, Stewart E. Rauch III
ناشر: Wiley-IEEE Press
سال انتشار: 2009
تعداد صفحات: 643
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 5 مگابایت