فناوری فرآیند آی سی های سه بعدی سطح ویفر
Wafer Level 3-D ICs Process Technology
نویسنده: Chuan Seng Tan, Ronald J. Gutmann, L. Rafael Reif (auth.), Chuan Seng Tan, Ronald J. Gutmann, L. Rafael Reif (eds.)
ناشر: Springer US
سال انتشار: 2008
تعداد صفحات: 364
زبان: English
فرمت: pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل: 11 مگابایت